Kirk Prall: CMOS Plasma and Process Damage, Kartoniert / Broschiert

Kirk Prall

CMOS Plasma and Process Damage

Buch

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Verlag:: Springer, 05/2026
Einband:: Kartoniert / Broschiert
Sprache:: Englisch
ISBN-13:: 9783031890314
Artikelnummer:: 12788577
Umfang:: 488 Seiten
Gewicht:: 733 g
Maße:: 235 x 155 mm
Stärke:: 27 mm
Erscheinungstermin:: 18.5.2026
Hinweis: Achtung: Artikel ist nicht in deutscher Sprache!

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Klappentext

This book discusses the complex technology of building CMOS computer chips and covers some of the unusual problems that can occur during chip manufacturing. Readers will learn how plasma and process damage results from the high-energy processes that are used in chip manufacturing, causing harm to the chips, functional failure and reliability problems.