Ion Implantation and Annealing Applications, Science and Technology, Gebunden
Ion Implantation and Annealing Applications, Science and Technology
Buch
- Contributions from IIT School, Edition 2024
Artikel noch nicht erschienen, voraussichtlicher Liefertermin ist der 9.1.2026.
Sie können den Titel schon jetzt bestellen. Versand an Sie erfolgt gleich nach Verfügbarkeit.
Sie können den Titel schon jetzt bestellen. Versand an Sie erfolgt gleich nach Verfügbarkeit.
Aktueller Preis: EUR 251,89
- Herausgeber:
- Wilfried Lerch, Michael Current
- Verlag:
- Springer-Verlag GmbH, 01/2026
- Einband:
- Gebunden
- Sprache:
- Englisch
- ISBN-13:
- 9783032100078
- Artikelnummer:
- 12467866
- Sonstiges:
- Approx. 600 p.
- Erscheinungstermin:
- 9.1.2026
- Hinweis
-
Achtung: Artikel ist nicht in deutscher Sprache!
Klappentext
This book compiles the insights and teachings from the 2024 IIT School lectures, offering a comprehensive look at ion implantation and annealing in semiconductor manufacturing. It covers the history of integrated circuits, common applications in CMOS technology, ion sources, radiation damage, annealing of materials like silicon (Si), silicon carbide (SiC) and gallium nitride (GaN), and advances in cluster ion beam technology. This edition, enriched by expert contributions, serves as an essential reference for students and professionals in materials science and microelectronics.
Ion Implantation and Annealing Applications, Science and Technology
Aktueller Preis: EUR 251,89
